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Caracterización electroquímica de bicapas de Ti/TiN depositadas sobre acero RUS-3 por el método de magnetrón sputtering
Aperador Chaparro, William Arnulfo; Caicedo, Julio Cesar; Ipaz, Leonid; Zambrano, Gustavo; Gómez, María Elena; Yate, Luis; Esguerra Arce, Johanna (Colombia, 2008)Se depositaron bicapas del sistema Ti/TiN sobre substratos de silicio [100] y acero RUS-3 usando la técnica de magnetrón sputtering d.c. a una temperatura del substrato de 400ºC, una potencia d.c de 80W y aplicando al ... -
Efecto del voltaje Bias D.C. en las propiedades electroquímicas de películas delgadas de AlN obtenidas por medio de la técnica magnetrón sputtering R.F
Yate, Luis; Aperador Chaparro, William Arnulfo; Caicedo, Julio Cesar; Zambrano, Gustavo; Espinoza Beltrán, F. J; Muñoz Saldaña, Juan (Colombia, 2009)Se depositaron películas delgadas de nitruro de aluminio, AlN, por el método de magnetrón sputtering r.f. reactivo usando un blanco de aluminio (99.9 %), sobre sustratos de silicio [100] y acero Rus-3, para investigar la ... -
Effect of applied bias voltage on corrosion-resistance for TiC1xNx and Ti1xNbxC1yNy coatings
Caicedo, Julio Cesar; Amaya, Cesar; Yate, Luis; Aperador Chaparro, William Arnulfo; Zambrano, Gustavo; Gómez , María Elena ; Muñoz Saldaña, Juan; Prieto Pulido, Pedro; Gómez De Prieto, María Elena; Gordillo Suarez, Marisol; Esguerra Arce, Johanna (ElSevierPaíses Bajos, 2010)Corrosion-resistance behavior of titanium carbon nitride (Ti–C–N) and titanium niobium carbon nitride (Ti–Nb–C–N) coatings deposited onto Si(1 0 0) and AISI 4140 steel substrates via r.f. magnetron sputtering process ...